對于Fe、Co、Ni、Fe2O3、坡莫合金等鐵磁性材料，要實現(xiàn)低溫、高速濺射沉積，采用普通的磁控濺射方式會受到很大的限制。這是由于采用上述幾種材料制成的靶磁阻很低，大部分磁場如圖1所示的那樣幾乎*從鐵磁性靶材內(nèi)部通過，使靶材表面上部的剩余磁場過小，無法形成有效地電子束縛區(qū)域，不可能形成平行于靶表面的使二次電子作圓擺線運動的強磁場，使得磁控濺射不能進行。此時，磁控濺射就成為效率很低的二極濺射，使薄膜的沉積速度大大下降，基片急劇升溫。

 

相比普通靶材，除了磁屏蔽效應(yīng)外，在濺射鐵磁性材料時，等離子體磁聚現(xiàn)象變得更加嚴重。如圖2所示，圖2 (a) 中的點1和點3是磁力線通道中線軸C兩邊的點。在濺射時，由于電場和磁場共同存在，處于點1和點3位置的電子受到庫侖力和洛侖茲力的作用而向磁力線通道的中線軸C處運動，處于點2位置的電子不受橫向力的作用。

 

　　因此，濺射時中線軸處的等離子體多，在靶材相應(yīng)位置的濺射為激烈，濺射率也大。這種情況在所有的靶材濺射中均存在。但是在濺射鐵磁性靶材時，等離子體磁聚現(xiàn)象更加嚴重。

 

　　從圖2(d) 可見，由于等離子體磁聚現(xiàn)象，首先在磁力線通道中線處出現(xiàn)濺射溝道，原從鐵磁靶材內(nèi)部通過的磁力線就將從溝道處外泄出來，濺射的溝道越深，外泄的磁力線越多，磁力線中軸處的磁場強度越大，從而使更多的電子在磁力線中軸處磁聚，更多的等離子體在磁力線中軸處產(chǎn)生，于是溝道處的濺射率就越大，終導(dǎo)致溝道處的靶材更快被濺穿。由于鐵磁性靶材內(nèi)部通過的磁力線遠遠多于普通靶材，所以其磁力線外瀉的更多，磁力線中軸處的磁場強度更大，溝道處的濺射刻蝕速率更快。