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簡(jiǎn)要描述：質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC 是用于精確控制氣體質(zhì)量流量的設(shè)備，MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中， 也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場(chǎng)。MFC 可通過(guò)對(duì)氣體流量的精準(zhǔn)控制，有效地提供更高的良率。
產(chǎn)品型號(hào)：V 系列 MFC廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-07-11訪(fǎng) 問(wèn) 量：628產(chǎn)品資料：產(chǎn)品分類(lèi)
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詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC
應(yīng)用場(chǎng)景：MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中， 也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場(chǎng)。 MFC 可通過(guò)對(duì)氣體流量的精準(zhǔn)控制，有效地提供更高的良率。
該系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的 etch（刻蝕）、CVD（化學(xué)氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、MOCVD（金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積）等工藝設(shè)備中，也適用于如 MPCVD（微波等離子體化學(xué)氣相沉積）、解熱解凍干燥、石英提純、醫(yī)療廢棄物處理等領(lǐng)域。
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